濕電子化學品，又稱超凈高純試劑或工藝化學品，是指主體成分純度大于 99.99%，雜質離子和微粒數符合嚴格要求的化學試劑。主要以上游硫酸、 鹽酸、 氫氟酸、 氨水、 氫氧化鈉、 氫氧化鉀、 **、 乙醇、 異丙醇等為原料，經過預處理、 過濾、 提純等工藝生產得到的高純度產品。濕電子化學品是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種液體化工材料，是電子技術與化工材料相結合的創新產物，具有技術門檻高、資金投入大、產品更新換代快等特點。濕電子化學品按用途主要分為通用化學品和功能性化學品兩類。其中通用化學品以高純溶劑為主，例如氧化氫、氫氟酸、硫酸、磷酸、鹽酸、硝酸等；功能性化學品指通過復配手段達到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的配方類或復配類化學品，主要包括顯影液、剝離液、清洗液、刻蝕液等。濕電子化學品目前廣泛應用在半導體、平板顯示、太陽能電池等多個領域，其中液晶面板領域增速快。即按下游產品應用的工藝環節分，主要有平板顯示制造工藝的應用、半導體制造工藝的應用及太陽能電池板制造工藝的應用。

      全球電子材料和化學品市場過去形成了三足鼎立之態勢，分別是歐美，日本，以及除日本之外的亞洲其他國家或地區企業。由于集成電路材料在下游成本中占比不大，但對產品性能影響卻很大，因此下游客戶對產品價格敏感度不高，更看重產品的質量、穩定性，存在很高的技術壁壘，我國的電子材料和化學品依賴度非常高，特別是在高端產品制造中所涉及的功能性化學品，我國自給率不足 20%。 2010 年國內統計數據顯示，濕電子化學品消耗總量約為 18 萬噸/年，硫酸約占27%~33%，雙氧水約占8%~22%，氨水約占 8%，鹽酸約占 3%~8%，其他酸（包括硝酸、醋酸、氫氟酸和磷酸等）約占 10%~20%，刻蝕劑約占 12%~20%，有機溶劑約占 10%~15%。隨著半導體行業的發展，濕電子化學品需求量逐年不斷增加，預計至 2020 年國內應用于半導體行業、平板行業的濕電子化學品需求量將超過 80 萬噸，綜上所述，在超凈高純試劑中 H2SO4、 HF、 HNO3、 HCl 和醋酸等酸性溶液，NH3?H2O 和 KOH 等堿性溶液， H2O2 等氧化溶液， IPA 等有機溶液均存在加大范圍的應用。